テクセンドフォトマスク株式会社
旺盛な半導体需要に的確・迅速に対応するため、凸版印刷から独立し株式上場(IPO)を目指す、
半導体用フォトマスク新会社での業務です。
【業務概要】
・本ポジションでは、ヘッドマウントディスプレイ向け光学デバイスに使用されるナノインプリント用モールドの開発を主とした、
シリコン等の微細加工の開発技術、プロセス設計、生産技術業務をご担当いただきます。
◆主な業務内容◆
・ナノインプリントリソグラフィの要素技術開発（NIL材料、レプリカ材料、離型剤、プロセス）
・ナノインプリントリソグラフィの試作ラインの立ち上げ
・立ち上げ後の生産性改善
・要素技術を統合した顧客向け試作開発
※本人の経験や適性に応じて、業務範囲をご相談させて頂きます
【業務内容変更の範囲】
会社の定める業務
国内シェアトップクラスを有するフォトマスク事業として、優位なポジションからの分社化のため、今後よりいっそう競争力をもち独自性を打ち出していくため、スタートアップメンバーそれぞれの能力がダイレクトな事業躍進に繋がります。グローバルで積極的に拡大していきます。