日立グループ
【業務概要】
半導体エッチング装置におけるプロセス戦略・マーケティング機能の中核として、市場・技術・顧客動向の分析に基づく製品戦略および開発計画の立案・提案を担っていただきます。
社内の開発・営業・関連部門および外部パートナーとの連携をリードし、戦略の具体化と実行を推進していただきます。課長または主任クラスとしてチーム運営にも関与しつつ、自らもハンズオンで情報収集・仮説構築・提案活動を行うプレイングマネージャーとしての役割を期待しています。
【業務詳細】
業務は主に①戦略企画・分析業務と②社内外連携・実行推進業務の大きく二つに分けられます。
①戦略企画・分析業務
市場動向、デバイス技術動向、顧客ニーズ、競合・学会情報などの収集・分析を行い、業界トレンドや顧客課題を把握します。これらの情報を基に、自社エッチング装置の製品戦略、差別化ポイント、開発方針の立案・提案を行います。
また、新たな技術・アプリケーション動向にも常にアンテナを張り、必要に応じて新規機能開発やテーマ提案を行い、開発部門と連携して具体化を推進します。技術面の細かい点については開発部門が担いますが、収集する情報に寄っては開発部門を介さず顧客および研究所と直接やり取りを行うことも多いです。
②社内外連携・実行推進業務
立案した戦略や企画について、開発部門・営業部門・サービス部門および外部パートナーと連携し、具体的な開発計画や顧客提案へと落とし込み、実行を推進します。
また、プロジェクト全体を俯瞰しながら優先順位付けや課題整理を行い、関係者を巻き込みながら合意形成および進捗管理を担っていただきます。
上記の通り、組織横断で多くの関係者を巻き込みながら業務を推進いただくため、
・市場・技術・顧客を横断して戦略立案に関わりたい方
・技術バックグラウンドを活かしながら、より上流で事業に貢献したい方
・関係部門や外部と連携しながら主体的にプロジェクトをリードしたい方
にマッチした環境です。
※社内には経験豊富なメンバーが在籍しており、連携しながらキャッチアップいただける体制があります。技術/知見を継承いただき、将来組織を牽引いただくことを期待します。
【業務内容変更の範囲】
会社の定める業務
【採用背景】
半導体デバイスの微細化・三次元化の進展により、エッチングプロセスの高度化および装置差別化の重要性が急速に高まっています。また、グローバル市場における競争環境も激化しており、市場・顧客・技術情報を統合した戦略的な意思決定が不可欠となっています。
当部署では、こうした環境変化に対応し、製品戦略の高度化と実行力強化を図るため、プロセス企画・マーケティング機能の拡充を目的として人材を募集しています。
開発部門や顧客、社外パートナー等、関係各所とコミュニケーションを取り、情報収集力を発揮いただくことを期待しております。
【やりがい】
・市場・技術情報をもとに自ら仮説を立て、戦略として形にする上流業務に携われます。
・部門横断で関係者を巻き込みながら戦略を実行し、製品や事業に結びついた際に大きな達成感を得られます。
【キャリアパス】
・プロセス企画・戦略のスペシャリスト、またはプロダクトマネジメント／事業企画への展開
・海外市場・グローバルビジネスへの関与
・マネジメントポジション（課長・部長）へのステップアップ
【働き方】
①配属組織／チームについて
・当部署は、半導体エッチング装置におけるプロセス企画・戦略立案を担う組織であり、半導体プロセスや装置に精通したメンバーが在籍しています。
・市場や技術動向への関心が高く、自ら主体的に情報収集・発信を行う志向の人材が多く、年次に関係なく意見交換がしやすいフラットな組織です。
・開発・営業・サービス部門に加え、海外拠点や顧客との連携機会も多く、グローバルな環境で業務に取り組むことができます。
②働き方について
・出社と在宅を組み合わせたハイブリッド勤務が可能です（目安：週に数日出社）。
・フレックスタイム制度により、個々の業務状況に応じた柔軟な働き方が可能です。
・海外顧客や拠点との連携に伴い、必要に応じて海外出張の機会もあり、現地での情報収集や関係構築に携わることができます。
【その他】
＜出張／駐在に関して＞
自らの判断のもと、必要に応じて国内・海外出張を行っており、頻度は個人差がございます。
海外駐在の可能性は現状想定しておりません。ただし、将来的に組織状況や本人の希望等も踏まえて、チャレンジできる可能性はございます。
＜平均残業時間＞
20～30時間程度/月
＜教育／育成支援に関して＞
キャリア別の教育プランを用意しています。
業務遂行にあたり必要な知識を学ぶための外部セミナー等も受けていただくことができます。
【エッチング装置について】
エッチング装置は半導体デバイスの製造プロセスに使われる装置です。
当社が開発する「ドライエッチング装置」は高真空プラズマを利用します。真空容器内でガスをプラズマ化し、化学反応と加速したイオンで薄膜を削って除去します。
当社のエッチング装置は、ECR（Electron Cyclotron Resonance）、電子サイクロトロン共鳴という技術を用いています。低圧でエッチングができるため、ダメージが少なく微細な加工が可能です。
真空装置に磁界を印加すると磁力線を中心に電子が回転運動を行います。そこへマイクロ波を入射すると、回転運動と電界が共鳴し、電界エネルギーが電子に吸収されます。電子を有効に加速し大きなエネルギーを与えることができます。
【日立ハイテクについて】
当社は安定的な経営基盤を誇る日立グループの中でもメーカーと商社の機能を併せ持つ稀有な企業であり、製造、販売、サービスまでを一貫して手掛けることであらゆる顧客ニーズに応えられる強みを有しています。「見る・測る・分析する」のコア技術を基盤に、医用・バイオ分析装置、放射線治療・先端医療システム、半導体検査装置、半導体製造装置、先端産業や社会インフラのソリューション事業等、最先端分野でリーディングカンパニーとして事業を展開しています。
“知る力で、世界を、未来を変えていく”という企業ビジョンと共に更なる成長を目指して、積極的な研究開発、設備投資、事業投資を行っています。